Перевод с английского под редакцией Ф.П. Пресса. — Москва: Радио и связь, 1984. — 336 с.: ил.
Брюэр Дж. Р., Гринич Д.С., Херриот Д.Р., Херденсон Р.К., Балантай Дж., Тротель Ж., Фэй Б.
Рассмотрены процессы высокоразрешающей электронно-лучевой литографии, взаимодействие электронного луча с резистом, способы изготовления фотошаблонов и переноса изображения на полупроводниковую пластину. Даны примеры электронно-лучевых установок. Определены области наиболее целесообразного применения электронно-лучевой литографии.
Для широкого круга инженерно-технической работников, занимающихся проектированием и изготовлением полупроводниковых приборов и интегральных схем.
Предисловие редактора перевода.
Предисловие.
Литография с высокой разрешающей способностью.
Электронно-лучевые процессы.
Электронно-лучевые установки.
Изготовление микроэлектронных приборов с применением электронно-лучевой литографии.
Изготовление шаблонов с применением электронно-лучевой литографии.
Методы репродуцирования.
Список литературы.
Список работ, переведенных на русский язык.