Гасанов И.С. Плазменная и пучковая технология

Баку: Элм, 2007. - 175 с.В книге рассматриваются физические процессы, лежащие в основе работы ионных и плазменных источников, а также их конструкции и функциональные параметры. Описываются методы масс-анализа состава ионных пучков и остаточного газа в вакуумной системе.
Характеризуются механизмы взаимодействия ускоренных ионов и электронов с веществом, способы осаждения тонких пленок, основные применения плазменной технологии.
По содержанию и уровню изложения книга предназначена для научных сотрудников, работающих в области физической электроники, а также может быть рекомендована аспирантам и магистрам соответствующих специальностей.Плазменное состояние вещества. Элементарные процессы в плазме
Способы получения вакуума. Термоэлектронная и автоэлектронная эмиссия
Системы извлечения заряженных частиц. Пушка Пирса. Конструкция и параметры источников
Элементы корпускулярной оптики. Влияние пространственного заряда пучков. Линзы и их аберрации
Плазмооптика. Плазмооптические системы
Ускорители заряженных частиц
Электронная, ионная и туннельная микроскопия
Масс-анализ ионных пучков
Взаимодействие ускоренных электронов с веществом
Электронно-лучевая обработка материалов
Взаимодействие ускоренных ионов с веществом
Ионное распыление материалов
Применение ионного распыления
Изменение электрических свойств твёрдых тел ионной бомбардировкой
Пучковая металлургия
Плазменная обработка поверхности материалов. Плазмохимия
Получение тонких пленок в вакуумных условиях