Зарегистрироваться
Восстановить пароль
FAQ по входу

Zhang Huashun. Ion Sources

  • Файл формата djvu
  • размером 9,63 МБ
  • Добавлен пользователем , дата добавления неизвестна
  • Описание отредактировано
Zhang Huashun. Ion Sources
Springer, Berlin, 1999. - 476 c.
Приведен обзор физических основ газовых разрядов, используемых для создания источников ионов. Книга содержит следующие разделы:
Основы газовых разрядов
Системы экстракции для ионных источников
Источники положительных ионов
Гигантские ионные источники
Источники многозарядных ионов
Масс- и энергетические спектры ионных источников
Источники отрицательных ионов
Самонейтрализация пучков пространственного заряда
Пучковые диагностики для ионных источников
  • Чтобы скачать этот файл зарегистрируйтесь и/или войдите на сайт используя форму сверху.
  • Регистрация

Смотри также

Подробнее

Capitelli M., Ferreira C.M., Gordiets B.F., Osipov A.I. Plasma Kinetics in Atmospheric Gases

  • djvu
Springer Series on Atomic, Optical and Plasma Physics, Vol. 31, 2000. 299 pages (in English). Fundamentals of physical-chemical kinetics in low temperature plasmas in atmospheric gases. The book includes fundamental aspects of the physical-chemical kinetics, complete data on molecular parameters, cross sections and rate coefficients, and applications to conditions occurring in...
  • 2,50 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Подробнее

Mahan J.E., Physical vapor deposition of thin films

  • pdf
Wiley, New York, 2000, 312 c. В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механизмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении,...
  • 5,18 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Подробнее

Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films

  • pdf
San Diego, Academic Press, 1999. - 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: Физика распыления Плазменные системы Планарный магнетрон Распылительные устройства Направленное осаждение Планаризованное PVD: использование повышенных...
  • 13,60 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Подробнее

Браун Я. Физика и технология источников ионов

  • djvu
В коллективной монографии авторов из США, ФРГ, Великобритании, Бельгии, Японии и России рассмотрены вопросы физики плазмы применительно к ионным источникам, проблемы вытягивания, фокусировки и транспортировки ионов, методы компьютерного моделирования, сильноточные газовые источники, источники-инжекторы для ускорителей частиц, источники для электромагнитных разделителей изотопов...
  • 3,89 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Подробнее

Гасанов И.С. Плазменная и пучковая технология

  • pdf
Баку: Элм, 2007. - 175 с. В книге рассматриваются физические процессы, лежащие в основе работы ионных и плазменных источников, а также их конструкции и функциональные параметры. Описываются методы масс-анализа состава ионных пучков и остаточного газа в вакуумной системе. Характеризуются механизмы взаимодействия ускоренных ионов и электронов с веществом, способы осаждения...
  • 967,28 КБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Подробнее

Кузьмичев А.И. Магнетронные распылительные системы. Кн. 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления

  • pdf
Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких пленок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся...
  • 11,38 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Наверх