San Diego, Academic Press, 1999. - 419 p.
Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы:
Физика распыления
Плазменные системы
Планарный магнетрон
Распылительные устройства
Направленное осаждение
Планаризованное PVD: использование повышенных температур и/или высокого давления
Ионизованное магнетронное распылительное осаждение.
PVD материалы и процессы
Процесс моделирования магнетронного осаждения
Распылительные мишени