Mahan J.E., Physical vapor deposition of thin films
Файл формата
pdf
размером 5,18 МБ
Добавлен пользователем VisitorL, дата добавления неизвестна
Описание отредактировано
Wiley, New York, 2000, 312 c. В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механизмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участвующие в процессе распыления. Завершает книгу глава об осаждении пленок.
Чтобы скачать этот файл зарегистрируйтесь и/или войдите на сайт используя форму сверху.
3rd edition. — William Andrew, 2010. — 912 p. Recent years have seen a rapid expansion in the applications of advanced thin film coatings in areas including photovoltaics, energy conversion, energy efficiency, biomedical engineering, telecommunications, pharmaceuticals and flat panel displays. In a tough economic climate, surface engineering remains a growth industry, because...
San Diego, Academic Press, 1999. - 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: Физика распыления Плазменные системы Планарный магнетрон Распылительные устройства Направленное осаждение Планаризованное PVD: использование повышенных...
Springer, Berlin, 1999. - 476 c. Приведен обзор физических основ газовых разрядов, используемых для создания источников ионов. Книга содержит следующие разделы: Основы газовых разрядов Системы экстракции для ионных источников Источники положительных ионов Гигантские ионные источники Источники многозарядных ионов Масс- и энергетические спектры ионных источников Источники...
Баку: Элм, 2007. - 175 с.
В книге рассматриваются физические процессы, лежащие в основе работы ионных и плазменных источников, а также их конструкции и функциональные параметры. Описываются методы масс-анализа состава ионных пучков и остаточного газа в вакуумной системе.
Характеризуются механизмы взаимодействия ускоренных ионов и электронов с веществом, способы осаждения...
М.: Радио и связь, 1982. - 72с.
Рассматриваются принцип действия и конструкции магнетронных распылительных систем, их рабочие характеристики, принципы конструирования и расчета, а также применение магнетронных распылительных систем в полупроводниковом производстве и ряде других областей, в которых используются пленочные покрытия. Описывается получение с помощью магнетронных...
Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких пленок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся...
