Зарегистрироваться
Восстановить пароль
FAQ по входу

Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Plasma Sources for thin film deposition and etching

  • Файл формата pdf
  • размером 36,71 МБ
  • Добавлен пользователем , дата добавления неизвестна
  • Описание отредактировано
Francombe M.H., Vossen J.L. Physics of Thin Films. Plasma Sources for thin film deposition and etching
Academic Press, San Diego, 1994, 322 c.
В книге представлены несколько больших обзоров:
1) Конструкция плазменных источников высокой плотности для обработки материалов
2) Плазменные источники на основе электрон-циклотронного резонанса и их использование для плазменного осаждения тонких пленок
3) Несбалансированное магнетронное распыление
4) Формирование частиц (пылевых) в технологической плазме.
  • Чтобы скачать этот файл зарегистрируйтесь и/или войдите на сайт используя форму сверху.
  • Регистрация

Смотри также

Подробнее

Mahan J.E., Physical vapor deposition of thin films

  • pdf
Wiley, New York, 2000, 312 c. В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механизмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении,...
  • 5,18 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Подробнее

Powell R.A., Rossnagel S.M. Thin Films

  • pdf
San Diego, Academic Press, 1999. - 419 p. Рассмотрены различные конструкции плазменных распылительных систем для осаждения тонких пленок, а также происходящие в них физические процессы. Кроме Введения, содержит следующие главы: Физика распыления Плазменные системы Планарный магнетрон Распылительные устройства Направленное осаждение Планаризованное PVD: использование повышенных...
  • 13,60 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Подробнее

Ивановский Г.Ф. Ионно-плазменная обработка материалов

  • djvu
М.: Радио и связь, 1986. - 232 с. Скан разворотами Рассматриваются физико-химические основы и принципы применения ионно-плазменной обработки материалов в вакууме с целью очистки их поверхностей, травления на поверхности структур субмикронного размера, а также получения пленочных покрытий различных материалов. Анализируются основные закономерности и теоретические представления о...
  • 82,41 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Наверх