Барвинок В.А., Богданович В.И. Физические основы и математическое моделирование процессов вакуумного ионно-плазменного напыления
Файл формата
rar
размером 102,23 МБ
содержит документ формата
image
Добавлен пользователем Vladd11, дата добавления неизвестна
Описание отредактировано
В монографии рассмотрены физические основы и математическое моделирование процессов, происходящих при получении покрытий вакуумным ионно-плазменным методом. Основное внимание уделено процессам транспортировки плазмы металлов в разреженной газовой среде, электрообмену движущейся плазмы с поверхностью твердого тела и кинетике гетерогенного плазмохимического синтеза покрытий из ускоренных плазменных потоков. На основе новых физических представлений дано объяснение эффекта низкотемпературного синтеза сверхтвердых соединений на поверхности твердого тела. Уточнены классические методики расчета макроскопических констант скоростей реакций хемосорбции, диссоциации и десорбции. Приведен фактический обширный материал по реализации покрытий в промышленности. Монография предназначена для научных и инженерно-технических специалистов, занятых в области получения покрытий, взаимодействия плазмы с поверхностью твердого тела и гетерогенного синтеза, а также для преподавателей, аспирантов и студентов университетов и вузов. – М.: Машиностроение, 1999. – 309 с.
Чтобы скачать этот файл зарегистрируйтесь и/или войдите на сайт используя форму сверху.
М.: Техносфера, 2007. — 176 с.: цв. ил. — ISBN 978-5-94836-134-5. В книге обобщено современное состояние одной из отраслей производства изделий электронной техники: вакуумной технологии нанесения и травления тонких пленок. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок, плазмохимических установок для травления тонких пленок и технологических особенностей...
Жданов С. К., Курнаев В. А., Романовский М. К, Цветков И. В. — М.: МИФИ, 2000. Учебное пособие содержит изложение основ физики плазмы и процессов, происходящих в приборах и установках, предназначенных для создания и практического применения плазмы, а также сведения об эмиссионных явлениях, используемых при генерации плазмы, сведения об элементах ионной и электронной оптики, о...
М.: Радио и связь, 1986. - 232 с. Скан разворотами Рассматриваются физико-химические основы и принципы применения ионно-плазменной обработки материалов в вакууме с целью очистки их поверхностей, травления на поверхности структур субмикронного размера, а также получения пленочных покрытий различных материалов. Анализируются основные закономерности и теоретические представления о...
М.: Машиностроение, 1993. — 296 с.
Приведены результаты исследований и разработок электродуговых плазмотронов постоянного и переменного тока и методы их расчёта.
Описаны схемы, конструкции и характеристики ряда оригинальных плазмотронов, обладающих широким диапазоном параметров нагреваемого газа и высокой эффективностью. Большое внимание уделено описанию физических процессов в...
Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких пленок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся...
Том 1, Том
2. / Перевод с англ. под ред Елинсона. - М.: "Сов. Радио", 1977.
Книга является универсальным справочным пособием для широкого круга инженеров и конструкторов радиоэлектронной аппаратуры, разработчиков интегральных микросхем и радиоэлектронных элементов, научных работников, аспирантов и студентов, специализирующихся в области микроэлектроники, физики и технологии...