Айнспрук Н., Браун Д. (ред.) Плазменная технология в производстве СБИС

Коллектив авторов. — Перевод с англ. Ю.М.Золотарева, В.В. Юдина под ред. Е.С. Машковой. — Монография. — М.: Мир, 1987. — 471 с.Книга ведущих специалистов из США и Японии, в которой рассмотрены вопросы физики, химии и технологии применения плазменной обработки в производстве СБИС.
Это своеобразная энциклопедия по физики, химии процессов осаждения, литографии и травления с применением ионно плазменных методов.
Книга предназначена для специалистов в области физики и химии плазмы, технологии микроэлектроники, а также для студентов соответствующих специальностей.
В книге рассмотрены вопросы напыления тонких пленок различных соединений. Достаточно подробно рассмотрены вопросы химического и плазмохимического осаждения тонких диэлектрических пленок, в том числе нитрида и оксида кремния. Описаны физические и химические процессы реактивного и ионного травления, особое внимание уделено технологическим аспектам процессов производства СБИС.Предисловие редактора перевода.
Предисловие.
История развития плазменной обработки.
Физическое распыление при изготовлении СБИС.
Стимулированное плазмой осаждение из газовой фазы пленок переходных металлов и их силицидов.
Стимулированное плазмой осаждение из газовой фазы диэлектрических пленок.
Трехслойный резист.
Основные принципы применения плазменного травления для изготовления кремниевых приборов.
Травление при высоком давлении.
Реактивное ионное травление.
Ионно-лучевое травление.
Реактивное ионно-лучевое травление.
Диагностика плазмы и определение момента окончания процесса травления. Развивающиеся методы травления.
Новые структуры, изготовленные с помощью сухого анизотропного травления.
Литература.
Предметный указатель.